雜散光抑制設(shè)計(jì)與分析

定　價(jià)：￥88.00

作　者：	埃里克·費(fèi)斯特著
出版社：	華中科技大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787568058001	出版時(shí)間：	2019-12-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：	208	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　雜散光是光學(xué)系統(tǒng)中非正常傳輸光的總稱，它對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量有嚴(yán)重的影響。雜散光的分析、計(jì)算以及消除是確保光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的重要前提。本書討論了光學(xué)系統(tǒng)工程實(shí)施中亟待解決的問題，從雜散光的基本理論出發(fā)，給出了雜散光分析的路徑，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行消除雜散光的設(shè)計(jì)。與以往文獻(xiàn)僅論述光學(xué)散射和雜散光的原理不同，它們很少討論雜散光在工程實(shí)踐中的應(yīng)用。本書不但總結(jié)了這些重要科學(xué)成果，為更詳細(xì)的研究提供了索引信息，而且還將這些科學(xué)成果應(yīng)用于光學(xué)系統(tǒng)工程中。同時(shí)，本書還考慮了執(zhí)行雜散光分析時(shí)的經(jīng)濟(jì)學(xué)問題，這也是當(dāng)前文獻(xiàn)中缺乏的一個(gè)維度。書中為各種預(yù)算提供了方法和解決方案，同時(shí)量化了每種方法相關(guān)的準(zhǔn)確性。

作者簡介

　　Eric C.Fest是美國雷神公司資深光學(xué)設(shè)計(jì)工程師，擅長偏振光學(xué)、光度學(xué)、傳感器設(shè)計(jì)、地球測(cè)量等。

圖書目錄

第１章　簡介和術(shù)語　 / １ ?。保薄?研讀本書的前提條件　 / ４　１．２　本書的組織結(jié)構(gòu) 　 / ４ ?。保场?雜散光術(shù)語　 / ６ ?。保础?小結(jié) 　 / １０　參考文獻(xiàn) 　 / １０第２章　雜散光分析中的基本輻射度學(xué) 　 / １２ ?。玻薄?輻射度學(xué)術(shù)語　 / １３ ?。玻病?輻射傳輸　 / ２８ ?。玻场?探測(cè)器響應(yīng)度　 / ３５ ?。玻础?小結(jié) 　 / ３６　參考文獻(xiàn) 　 / ３７第３章　雜散光分析中的基本光線追跡　 / ４０ ?。常薄?建立雜散光模型　 / ４０ ?。常病?光線追跡　 / ４３３．３　小結(jié) 　 / ５８　參考文獻(xiàn) 　 / ５９第４章　光學(xué)表面粗糙度和涂層引起的散射　 / ６０　４．１　未鍍膜的光學(xué)表面粗糙度引起的散射　 / ６１ ?。矗病?鍍膜光學(xué)表面粗糙度引起的散射　 / ７２ ?。矗场?劃痕和凹痕引起的散射　 / ７４ ?。矗础?小結(jié) 　 / ７５　參考文獻(xiàn) 　 / ７５第５章　微粒污染物引起的散射　 / ７７　５．１　球形微粒的散射(米氏散射理論) 　 / ７９ ?。担病?微粒密度函數(shù)模型　 / ８１ ?。担场SDF 模型　 / ９０　５．４　污染物散射與表面粗糙度散射的比較　 / ９５ ?。担怠?體材料內(nèi)雜質(zhì)引起的散射　 / ９５ ?。担丁?分子污染物　 / ９８ ?。担贰?小結(jié) 　 / ９８　參考文獻(xiàn) 　 / ９９第６章　黑化表面處理引起的散射　 / １０２　６．１　黑化表面處理的光散射的物理過程　 / １０３　６．２　黑化表面處理的選擇標(biāo)準(zhǔn) 　 / １１４ ?。叮场?黑化表面處理的類型　 / １１６ ?。叮础?常用的黑化表面處理的概論　 / １２１　６．５　小結(jié) 　 / １２２　參考文獻(xiàn) 　 / １２３第７章　鬼反射、孔徑衍射和衍射光學(xué)元件的衍射　 / １２５　７．１　鬼反射　 / １２５７．２　孔徑衍射　 / １３４ ?。罚场?衍射光學(xué)元件的衍射　 / １４０ ?。罚础?小結(jié) 　 / １４４　參考文獻(xiàn) 　 / １４５第８章　針對(duì)雜散光抑制的光學(xué)設(shè)計(jì) 　 / １４７ ?。福薄?使用視場(chǎng)光闌　 / １４７　８．２　無遮攔光學(xué)設(shè)計(jì) 　 / １４９ ?。福场?大限度地減少孔徑光闌與焦平面之間的光學(xué)元件數(shù)目　 / １５１ ?。福础?里奧光闌使用方法　 / １５２ ?。福怠?使用光瞳掩模來遮擋支柱和其他遮擋物的衍射和散射　 / １５５ ?。福丁?大限度地減少孔徑光闌的光照強(qiáng)度　 / １５６　８．７　大限度地減少光學(xué)元件的數(shù)量,尤其是折射元件的數(shù)量　 / １５６ ?。福浮?避免將光學(xué)元件放置在中間像面上　 / １５７ ?。福埂?避免將鬼像聚焦在焦平面上　 / １５７　８．１０　降低漸暈(包括支柱的投影立體角) 　 / １５８ ?。福保薄?使用時(shí)間、頻譜或偏振濾波器　 / １５９ ?。福保病?在紅外系統(tǒng)中使用非均勻補(bǔ)償和反射式暖屏　 / １６０　８．１３　小結(jié) 　 / １６３　參考文獻(xiàn) 　 / １６４第９章　擋板和冷屏設(shè)計(jì) 　 / １６５ ?。梗薄?主擋板和冷屏的設(shè)計(jì) 　 / １６６ ?。梗病?主擋板和冷屏的葉片設(shè)計(jì) 　 / １７０ ?。梗场assegrain 型系統(tǒng)的擋板設(shè)計(jì) 　 / １７６ ?。梗础?反射擋板葉片的設(shè)計(jì) 　 / １８１　９．５　掩模的設(shè)計(jì) 　 / １８３ ?。梗丁?小結(jié) 　 / １８４　參考文獻(xiàn) 　 / １８５第１０章　BSDF 、 TIS 和系統(tǒng)雜散光的測(cè)量　 / １８６ ?。保埃薄SDF 的測(cè)量(散射計(jì)) 　 / １８６ ?。保埃病IS 的測(cè)量　 / １８９　１０．３　系統(tǒng)雜散光的測(cè)量　 / １９０ ?。保埃础?內(nèi)部雜散光測(cè)試　 / １９６ ?。保埃怠?小結(jié) 　 / １９６　參考文獻(xiàn) 　 / １９６第１１章　雜散光工程過程　 / １９８ ?。保保薄?定義雜散光要求　 / ２００　１１．２　光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)與表面粗糙度、污染等級(jí)和涂層的選取　 / ２０２　１１．３　構(gòu)建雜散光模型,設(shè)置擋板和表面處理狀態(tài) 　 / ２０３ ?。保保础?計(jì)算雜散光性能　 / ２０３　１１．５　構(gòu)建和測(cè)試　 / ２０４ ?。保保丁?流程結(jié)束　 / ２０５ ?。保保贰?小結(jié) 　 / ２０６　１１．８　經(jīng)驗(yàn)和指南　 / ２０７　參考文獻(xiàn) 　 / ２０８