金屬高溫氧化和熱腐蝕（腐蝕與防護(hù)全書）

第1章　緒論
1.1　研究金屬高溫氧化的意義
1.2　運(yùn)用金屬高溫氧化知識(shí)發(fā)展新技術(shù)
1.3　金屬高溫氧化理論研究進(jìn)展
1.4　金屬高溫氧化文獻(xiàn)簡介
參考文獻(xiàn)
第2章　金屬高溫氧化的一般概念
2.1　金屬高溫氧化的定義
2.1.1　狹義高溫氧化
2.1.2　廣義高溫氧化
2.2　高溫氧化的基本過程
2.3　影響材料抗高溫氧化性能的主要因素
2.3.1　材料性質(zhì)
2.3.2　氧化膜性質(zhì)
2.3.3　氧化膜/金屬界面
2.3.4　氧化膜/氣體界面
2.3.5　氣相
2.4　高溫氧化測試與研究方法
2.4.1　概述
2.4.2　氧化動(dòng)力學(xué)實(shí)驗(yàn)
2.4.3　氧化膜的組成、結(jié)構(gòu)與形貌分析實(shí)驗(yàn)
2.4.4　氧化膜傳質(zhì)實(shí)驗(yàn)
2.4.5　氧化膜力學(xué)性質(zhì)的測定
參考文獻(xiàn)
第3章　金屬高溫氧化基礎(chǔ)
3.1　金屬氧化的熱力學(xué)判據(jù)
3.1.1　金屬氧化的自由能判據(jù)
3.1.2　反應(yīng)物化學(xué)熱力學(xué)穩(wěn)定性
3.1.3　金屬氧化的ΔＧ０Ｔ圖
3.1.4　廣義金屬氧化的ΔＧ０Ｔ圖
3.1.5　金屬及其氧化產(chǎn)物蒸氣壓
3.1.6　氧化反應(yīng)產(chǎn)物的熔點(diǎn)
3.2　金屬高溫氧化動(dòng)力學(xué)
3.2.1　氧化膜完整性
3.2.2　氧化膜生長速度
參考文獻(xiàn)
第4章　金屬氧化物晶體結(jié)構(gòu)與缺陷
4.1　簡單金屬氧化物晶體結(jié)構(gòu)
4.1.1　氯化物結(jié)構(gòu)
4.1.2　螢石結(jié)構(gòu)
4.1.3　金紅石結(jié)構(gòu)
4.1.4　剛玉結(jié)構(gòu)
4.1.5　尖晶石結(jié)構(gòu)
4.2　熱力學(xué)可逆缺陷——點(diǎn)缺陷
4.2.1　化學(xué)計(jì)量氧化物中的點(diǎn)缺陷
4.2.2　非化學(xué)計(jì)量氧化物中點(diǎn)缺陷
4.3　點(diǎn)缺陷方程與平衡
4.3.1　化學(xué)計(jì)量氧化物
4.3.2　非化學(xué)計(jì)量氧化物
4.4　外來離子對(duì)點(diǎn)缺陷平衡的影響
4.4.1　化學(xué)計(jì)量氧化物
4.4.2　非化學(xué)計(jì)量氧化物
4.5　氫缺陷
4.5.1　氫缺陷形成與反應(yīng)式
4.5.2　微量氫缺陷效應(yīng)
4.5.3　環(huán)境氫或水蒸氣壓力對(duì)氫缺陷濃度的影響
4.5.4　氫缺陷對(duì)氧化膜生長的影響
4.5.5　氧化膜中氫缺陷的研究
4.6　熱力學(xué)不可逆缺陷
4.6.1　線缺陷
4.6.2　面缺陷
4.6.3　擴(kuò)展缺陷
參考文獻(xiàn)
第5章　氧化物中的擴(kuò)散
5.1　擴(kuò)散方程與擴(kuò)散系數(shù)
5.1.1　擴(kuò)散基本方程
5.1.2　擴(kuò)散系數(shù)定義與相互關(guān)系
5.2　擴(kuò)散微觀機(jī)制
5.3　擴(kuò)散的原子描述
5.3.1　自擴(kuò)散系數(shù)
5.3.2　自擴(kuò)散與化學(xué)擴(kuò)散關(guān)系式
5.4　晶界擴(kuò)散
5.4.1　晶界擴(kuò)散的基本方程
5.4.2　晶界擴(kuò)散動(dòng)力學(xué)
5.4.3　運(yùn)動(dòng)晶界擴(kuò)散
5.5　表面擴(kuò)散
5.6　擴(kuò)散與電導(dǎo)率的關(guān)系
5.6.1　金屬氧化物電導(dǎo)率
5.6.2　電導(dǎo)率與擴(kuò)散關(guān)系
5.7　氧化物中擴(kuò)散研究
5.7.1　氧化鎳擴(kuò)散研究
5.7.2　抗氧化性優(yōu)良氧化物膜的擴(kuò)散研究
參考文獻(xiàn)
第6章　金屬高溫氧化理論
6.1　TPB拋物線定律
6.2　Wagner拋物線氧化理論
6.3　Wagner理論的適用性
6.4　其他拋物線定律
6.4.1　CabreraMott拋物線定律
6.4.2　Galbranson絕對(duì)氧化速度拋物線定律
6.4.3　Jost、Hoar和Price電化學(xué)模型
6.5　金屬與氧的初始反應(yīng)
6.5.1　形成化學(xué)吸附層的熱力學(xué)條件
6.5.2　金屬表面結(jié)構(gòu)
6.5.3　氧分子的性質(zhì)
6.5.4　氧在金屬上吸附態(tài)
6.5.5　金屬上二維氧化物成核
6.5.6　金屬上的三維氧化物成核
6.5.7　氧化物連續(xù)膜的形成過程
參考文獻(xiàn)
第7章　純金屬高溫氧化
7.1　形成n型氧化物的金屬高溫氧化
7.2　形成p型氧化物的金屬高溫氧化
7.2.1　純鎳的氧化
7.2.2　純鐵的氧化
7.2.3　形成多層氧化膜的理論處理
7.3　形成離子導(dǎo)體的金屬的氧化
7.4　純金屬氧化的其他重要特性
7.4.1　金屬氧化物具有低熔點(diǎn)或高蒸氣壓
7.4.2　失穩(wěn)氧化
7.5　氧化膜應(yīng)力的產(chǎn)生與釋放
7.5.1　氧化膜應(yīng)力的產(chǎn)生
7.5.2　氧化膜應(yīng)力釋放
參考文獻(xiàn)
第8章　合金高溫氧化
8.1　HauffeWagner理論
8.2　Smirnov理論
8.3　Wagner理論
8.3.1　貴金屬基二元合金僅溶質(zhì)B選擇氧化
8.3.2　兩組分同時(shí)氧化形成非均質(zhì)氧化膜
8.3.3　兩組分同時(shí)氧化形成均質(zhì)單相膜
8.3.4　兩組分同時(shí)氧化生成復(fù)合氧化物相
8.4　三元與多元合金高溫氧化
8.4.1　三元合金高溫氧化
8.4.2　多元合金的高溫氧化
8.5　保護(hù)性氧化鋁與氧化鉻膜的性質(zhì)與生長機(jī)制
8.5.1　氧化鉻膜性質(zhì)與生長機(jī)制
8.5.2　氧化鋁膜性質(zhì)與生長機(jī)制
8.6　反應(yīng)元素效應(yīng)
8.6.1　氧活性元素的添加方法
8.6.2　對(duì)Cr203膜的影響
8.6.3　對(duì)Al203膜的影響
8.6.4　彌散稀土氧化效應(yīng)
8.6.5　反應(yīng)元素效應(yīng)的機(jī)制
8.7　合金內(nèi)氧化
8.7.1　二元合金內(nèi)氧化動(dòng)力學(xué)
8.7.2　Wagner簡化處理
8.7.3　Wagner內(nèi)氧化動(dòng)力學(xué)方程
8.7.4　外氧化膜下內(nèi)氧化
8.7.5　內(nèi)氧化轉(zhuǎn)變?yōu)橥庋趸?br />8.7.6　內(nèi)氧化物的形貌
參考文獻(xiàn)
第9章　金屬廣義氧化
9.1　高溫硫化
9.1.1　金屬硫化物主要物理化學(xué)性質(zhì)
9.1.2　高溫硫化熱力學(xué)
9.1.3　高溫硫化動(dòng)力學(xué)
9.1.4　合金高溫硫化
9.2　高溫碳化
9.2.1　高溫碳化熱力學(xué)
9.2.2　高溫碳化動(dòng)力學(xué)
9.3　高溫鹵化
9.3.1　高溫鹵化熱力學(xué)
9.3.2　高溫鹵化動(dòng)力學(xué)
9.4　高溫氮化
參考文獻(xiàn)
第10章　熔鹽熱腐蝕
10.1　概述
10.2　典型的熱腐蝕——硫酸鹽熱腐蝕
　10.2.1　測定方法
　 10.2.2　熱力學(xué)
10.2.3　機(jī)理
參考文獻(xiàn)
第11　章高溫防護(hù)涂層
11.1　高溫防護(hù)涂層進(jìn)展
11.2　擴(kuò)散鋁化物涂層
　11.2.1　粉末包裝滲鋁
　11.2.2　氣相滲鋁
　11.2.3　料漿法滲鋁
11.3　改進(jìn)型鋁化物涂層
　11.3.1　鉻改進(jìn)鋁化物涂層
　11.3.2　硅改進(jìn)鋁化物涂層
　11.3.3　鉑改進(jìn)鋁化物涂層
　 11.3.4　稀土元素改進(jìn)鋁化物涂層
11.4　包覆涂層
　11.4.1　MCrAlY型涂層的成分、微觀結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能
　11.4.2　MCrAlY型合金的抗氧化、抗熱腐蝕性能
　11.4.3　包覆涂層的制備技術(shù)與微觀性能
　11.4.4　ODS型涂層及納米晶涂層
　11.4.5　智能涂層
　11.4.6　擴(kuò)散與包覆涂層的退化
11.5　熱障涂層
　11.5.1　陶瓷頂層
　 11.5.2　粘結(jié)底層
11.5.3　熱障涂層的失效機(jī)理
參考文獻(xiàn)
部分非法定單位換算表