核純鈾和鈾化合物中微量和超微量雜質(zhì)元素分析的新技術(shù)

     目錄
   前言
   第一章 核純鈾和鈾化合物的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)和標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
    一、核純鈾產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格
    二、核純鈾產(chǎn)品的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
    （一）核產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的國(guó)內(nèi)外狀況
    （二）我國(guó)U3O8標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制與特點(diǎn)
    三、核純鈾和鈾化合物的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
    參考文獻(xiàn)
   第二章 萃淋樹脂－萃取色譜分離法在核純鈾和鈾化合物
    雜質(zhì)元素分析中的應(yīng)用
    一、萃淋樹脂的研制與性質(zhì)
    （一）萃淋樹脂的發(fā)展
    （二）萃淋樹脂的制備
    1.浸潰法
    2.懸浮聚合法
    （三）萃淋樹脂的性質(zhì)
    1.幾種萃淋樹脂的最佳吸附介質(zhì)酸度
    2.幾種萃淋樹脂的物理性能
    3.使用壽命比較
    4.萃淋樹脂的活性物質(zhì)的水溶性及水解
    二、萃淋樹脂－萃取色譜分離法的基本原理
    （一）基本原理
    （二）色譜柱參數(shù)
    三、萃淋樹脂－萃取色譜分離法在鈾與雜質(zhì)元素分離中的應(yīng)用
    （一）CL－TBP萃淋樹脂應(yīng)用于大量雜質(zhì)元素與微量鈾的分離
    （二）CL－5208萃淋樹脂應(yīng)用于鈾和鈾化合物中大量鈾與微量雜質(zhì)元素的分離
    （三）CK－52209萃淋樹脂在鈾與雜質(zhì)元素分離中的應(yīng)用
    參考文獻(xiàn)
   第三章 時(shí)間分辨激光－熒光光度法測(cè)定核純鈾和鈾化合
    物中的釤、銪、鋱、鏑　和硼
    一、基本原理及特點(diǎn)
    （一）實(shí)驗(yàn)裝置
    （二）熒光平均壽命的測(cè)量
    （三）配合物的發(fā)光機(jī)理
    （四）方法的主要特點(diǎn)
    二、實(shí)驗(yàn)設(shè)備與儀器
    （一）自行組裝的實(shí)驗(yàn)裝置
    （二）改裝UA－3型鈾分析儀
    （三）LMA－1型激光微量物質(zhì)分析儀
    三、應(yīng)用實(shí)例
    （一）時(shí)間分辨激光－熒光光度法測(cè)定U3O8中的痕量釤、銪、鐵和嫡
    （二）時(shí)間分辨激光－熒光光度法測(cè)定U3O8中的痕量硼
    參考文獻(xiàn)
   第四章 電感耦合高頻等離子體－原子發(fā)射光譜法分析核
    純鈾和鈾化合物中的雜質(zhì)元素
    一、引言
    二、基本原理
    三、ICP光源
    （一）ICP的形成
    （二）ICP的環(huán)狀結(jié)構(gòu)與樣品的注入
    （三）ICP的溫度分布
    （四）ICP的發(fā)光特性
    （五）ICP的薄層發(fā)射源性質(zhì)
    （六－CP的非熱平衡特性及亞穩(wěn)態(tài)氬原子在激發(fā)過(guò)程中的作用
    （七）元素粒子在ICP炬中的滯留時(shí)間
    （八）ICPP－AES的分析性能
    四、ICPAES的儀器裝置
    （一）高頻發(fā)生器
    （二）炬管和工作氣體
    （三）水平式ICP裝置與豎直式ICP裝置性能的比較
    （四）進(jìn)樣系統(tǒng)
    1.溶液氣溶膠進(jìn)樣系統(tǒng)
    （1）玻璃同心氣動(dòng)霧化器
    （2）直角型氣動(dòng)霧化器
    （3）超聲霧化器
    （4）F化效率
    （5）去溶進(jìn)樣系統(tǒng)
    （6）不去溶進(jìn)樣系統(tǒng)
    2.分開(kāi)氣化進(jìn)樣系統(tǒng)
    （1）化學(xué)發(fā)生氣化法
    （2）電熱氣化進(jìn)樣系統(tǒng)
    3.固體粉末直接進(jìn)樣系統(tǒng)
    （五）ICP光譜儀器
    五、試樣溶解和化學(xué)分離
    （一）試樣溶解
    （二）化學(xué)分離
    1.溶劑萃取法
    2.每取色譜分離法
    3.離子交換分離法
    4.其它分離方法
    六、ICP－AES光譜測(cè)定方法
    （一）ICP－AES測(cè)定鈾和鈾化合物中的雜質(zhì)元素
    1.化學(xué)分離后的測(cè)定
    2.直接測(cè)定
    （二）ICp－AES與其它光源的光譜分析方法的比較
    七、ICP－AES的干　　擾效應(yīng)與消除
    （一）光譜的干擾
    （二）霧化和去溶干擾
    （三）化學(xué)干擾
    （四）電離干擾
    （五）干擾的消除
    八、方法的檢出限、精密度、準(zhǔn)確度及標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
    （一）檢出限的定義和測(cè)量方法
    （二）準(zhǔn)確度和精密度
    （三）標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
    參考文獻(xiàn)
   第五章 原子吸收光譜法測(cè)定核純鈾和鈾化合物中的雜質(zhì)元素
    一、概論
    二、基本原理
    （一）原子結(jié)構(gòu)和原子能級(jí)
    （二）原子能級(jí)的波爾茲曼分布
    （三）定量分析
    （四）譜線變寬
    三、儀器與設(shè)備
    （一）原子吸收光譜儀的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)
    （二）原子化器
    1.火焰原子化與燃?xì)?br />     2.電熱原子化器
    四、干擾與消除方法
    （一）光譜干擾與消除
    （二）化學(xué)干擾與消除
    （三）物理干擾與校正
    五、各種新技術(shù)的發(fā)展
    （一）火焰原子吸收光譜法
    1.試劑的增感技術(shù)
    2.原子捕集技術(shù)
    3.流動(dòng)注射（FI）技術(shù)
    （1）FI采樣法
    （2）FI稀釋法
    （3）FI合并帶法
    （4）FI校正技術(shù)
    （5）FI預(yù)濃集技術(shù)
    （二）氫化物形成和冷蒸氣原子吸收光譜法
    （三）石墨爐原子吸收光譜法
    1.石墨管原子化器的結(jié)構(gòu)形式和組分
    （1）難熔金屬碳化物石墨管
    （2）熱解涂層石墨管
    （3）全熱解石墨管
    2.L′vov石墨平臺(tái)與鉭平臺(tái)
    （1）L′vov石墨平臺(tái)
    （2）L′vov鉭平臺(tái)
    3.基體改進(jìn)效應(yīng)或待測(cè)元素改進(jìn)效應(yīng)
    六、原子吸收光譜法測(cè)定鈾和鈾化合物中的雜質(zhì)元素
    （一）直接測(cè)定法
    （二）測(cè)定前鈾與待測(cè)元素的分離方法
    1.蒸餾分離法
    2.離子交換分離法
    3.溶劑萃取分離法
    4.萃取色譜分離法
    5.萃淋樹脂萃取色譜法
    七、推薦的標(biāo)準(zhǔn)方法
    （一）鈾礦石濃縮物中鉀和鈉的測(cè)定
    （二）鈾礦石濃縮物中鐵、鈣、鎂、鉬、鈦、釩的測(cè)定
    （三）原子吸收光譜法測(cè)定UF6中的金屬雜質(zhì)
    （四）原子吸收光譜法測(cè)定UF6中的釕
    參考文獻(xiàn)
   第六章 質(zhì)譜同位素稀釋法測(cè)定核純鈾和鈾化合物中的痕量雜質(zhì)元素
    一、熱表面電離質(zhì)譜同位素稀釋分析
    （一）IDMS分析的原理和特點(diǎn)
    1.方法的原理
    2.方法的靈敏度
    3.方法的選擇性
    4.方法的準(zhǔn)確度
    5.方法的應(yīng)用
    6.方法的誤差
    （二）IDMS分析技術(shù)的若干新進(jìn)展
    1.質(zhì)譜負(fù)離子表面電離技術(shù)
    2.物理、化學(xué)電離技術(shù)
    3.多元素同時(shí)測(cè)定技術(shù)
    4.IDMS分析中的干擾及消除方法
    5.試劑純化水平的提高
    6.適于IDMS分析的新質(zhì)譜計(jì)
    （三）熱電離IDMS測(cè)定鈾和鈾化合物中的痕量雜質(zhì)元素
    1.IDMS分析中化學(xué)處理的特點(diǎn)
    2.IDMS法測(cè)定鈾化合物中的痕量硼
    3.IDMS法測(cè)定U3O8中的痕量釷
    4.IDMS法測(cè)定鈾化合物中的痕量鉛
    5.IDMS法測(cè)定鈾化合物中的痕量釤、銪、釓和鏑
    6.質(zhì)譜半定量法測(cè)定UF6中的烴、氯代烴及部分鹵代烴
    二、火花源質(zhì)譜及火花源質(zhì)譜同位素稀釋分析
    （一）SSMS方法的基本原理和特點(diǎn)
    （二）SSMS的定量手段
    1.標(biāo)準(zhǔn)樣品法
    2.內(nèi)標(biāo)法
    3.增值法
    4.同位素稀釋法
    （三）SSMS技術(shù)的若干新進(jìn)展
    1.同位素稀釋技術(shù)的應(yīng)用
    2.化學(xué)火花源質(zhì)譜法（CSSM3）的應(yīng)用
    3.電測(cè)和微處理機(jī)的應(yīng)用
    （四）SSMS及SSMS－ID法測(cè)定鈾化合物中的痕量雜質(zhì)元素
    1.SSMS法測(cè)定UO2中16種雜質(zhì)元素
    2.SSMS法測(cè)定UF4中的釤、銪、釓和鏑
    3.SSMS－ID法測(cè)定U3O8中的釤、銪、釓和鏑
    三、ICP－MS和ICP－MS－ID分析
    （一）ICP－MS的原理
    （二）ICP－MS的特點(diǎn)
    （三）ICP－MS的應(yīng)用
    1.電子工業(yè)
    2.地質(zhì)科學(xué)
    3.環(huán)境分析
    4.核工業(yè)
    （四）激光熔樣等離子體質(zhì)譜（LA－ICP－MS）測(cè)定鈾化合物中17種雜質(zhì)元素
    參考文獻(xiàn)
   第七章 鈾的同位素質(zhì)譜分析法
    一、質(zhì)譜分析的原理
    （一）離子源
    （二）質(zhì)量分析器
    （三）離子檢測(cè)器
    二、電子轟擊法分析鈾同位素
    （一）雙標(biāo)準(zhǔn)樣品法分析鈾同位素
    1.儀器設(shè)備
    2.分析規(guī)程
    （二）單標(biāo)準(zhǔn)樣品法分析鈾同位素
    1.儀器設(shè)備
    2.分析規(guī)程
    3.計(jì)算
    三、熱表面電離法分析鈾同位素
    （一）熱表面電離法的特點(diǎn)
    （二）單燈絲熱表面電離離子源
    （三）多燈絲熱表面電離離子源
    （四）多燈絲熱表面電離法分析233U的豐度
    四、熱表面電離法分析鈾同位素的若干技術(shù)進(jìn)展
    （一）多離子檢測(cè)技術(shù)
    （二）高豐度靈敏度分析
    （三）激光熔樣等離子體質(zhì)譜分析鈾同位素
    （四）鈾同位素標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制
    1.使用同位素標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的意義
    2.同位素標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制和定值
    3.國(guó)外鈾同位素標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制情況
    4.國(guó)內(nèi)鈾同位素標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制情況
    （五）233U單內(nèi)標(biāo)同位素稀釋法準(zhǔn)確測(cè)定235U與238U的豐度比
   參考文獻(xiàn)